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上海凯发娱发com 美国 凯发app 离子源又获半导体离子蚀刻 IBE 订单!
上海凯发娱发com 代理美国 凯发app 考夫曼离子源 RFICP 220 安装于离子蚀刻机 IBE 中, 实现半导体 8寸晶圆 wafer 的线路刻蚀.
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 离子源又获半导体离子蚀刻 IBE
------------------------------- 上海凯发娱发com 凯发app 射频离子源 RFICP 220 ------------------------------

凯发app 射频离子源 RFICP 220 高能量栅极离子源, 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 800 mA. 适用于预清洗,
辅助镀膜, 溅镀和蒸发镀膜, 离子蚀刻.

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 离子源

型号

RFICP 220

Discharge 阳极

RF 射频

离子束流

>800 mA

离子动能

100-1200 V

栅极直径

20 cm Φ

离子束

聚焦, 平行, 散射

流量

10-40 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

长度

30 cm

直径

41 cm

中和器

LFN 2000


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