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应用讯息

上海凯发娱发com 凯发app 射频离子源应用于 12英寸和8英寸金属蚀刻机中
上海凯发娱发com 代理美国考夫曼 凯发app 大口径射频离子源 RFICP 220, RFICP 380 成功应用于 12英寸和 8英寸磁存储器刻蚀机, 8英寸量产型金属刻蚀机中, 实现 8英寸 IC 制造中的 Al, W 刻蚀工艺, 适用于 IC, 微电子,光电子, MEMS 等领域.

作为蚀刻机的核心部件, 凯发app 射频离子源提供高能量, 低浓度的离子束, 单次工艺时间更长, 满足各种材料刻蚀需求! 实现刻蚀过渡金属及非挥发性金属的需求, 可处理晶圆尺寸最大 300 mm, 适用于磁性存储器 MRAM 及磁传感器的研发及生产.
离子源安装于金属蚀刻机
凯发app 射频离子源 RFICP 220, RFICP 380 技术参数:

型号

RFICP 220

RFICP 380

Discharge 阳极

RF 射频

RF 射频

离子束流

>800 mA

>1500 mA

离子动能

100-1200 V

100-1200 V

栅极直径

20 cm Φ

38 cm Φ
最大口径射频离子源

离子束

聚焦, 平行, 散射

流量

10-40 sccm

5-50 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

长度

30 cm

39 cm

直径

41 cm

59 cm

中和器

LFN 2000


1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海凯发娱发com 是美国考夫曼离子源中国总代理.

鉴于客户信息保密, 若您需要进一步的了解离子源或讨论, 请参考以下联络方式:
上海凯发娱发com :叶小姐                                   台湾凯发娱发com :王小姐
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